渲染烘焙

面板

渲染 ‣ 烘培

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

烘焙需要模型具有UV贴图，以及具有烘焙的图像的图像纹理节点。活动(最后选择的)图像纹理节点作为烘焙目标。

在强光/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如环境光遮蔽或来自平面光源的柔和阴影。如果为主要物体烘焙环境光遮蔽，则不必为完整渲染启用它，从而节省渲染时间。

在Cycles中使用渲染设置(采样、反弹、……)进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。

设置

合成结果

烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光，特殊效果。

通过相应组合可以单独切换以形成最终地图。

环境光遮蔽

烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

阴影

烘焙阴影及灯光。

法线

烘焙不同空间的法线。

在材质中你也可以选择相同的空间坐标，也就是图像纹理选项中， 法线贴图 设置的下面。为了得到的正确的结果，这里的设置应该和烘焙中的设置相同。

映射 UV 坐标，用于表示纹理映射至网格上的位置。这通过图像的红色和绿色通道表示，蓝色通道的编码为常值1，但不保存任何信息。

自发光

烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

环境光

根据从世界原点(0, 0, 0)投射的光线所看到的，将环境(即为场景定义的世界表面着色器)烘焙到选定的物体上。

Diffuse, Glossy, Transmission

Bakes the diffuse, glossiness, or transmission pass of a material.

选择为活动物体

烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹，你可以通过调节 光线距离 或是 罩体挤出 (取决于你是否使用罩体)来调节光线的起点。对于更多的控制，你可以通过指定 罩体物体 来实现。

Note

内存用量

每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存，为了避免内存不足而造成的崩溃，在烘焙之前，可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置，也会影响到内存的使用。比如分的块越大，CPU占用的越少，而内存则会占用的更多(不管是CPU，还是GPU)。

罩体

光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动(指定要用的物体)或自动(调整光线距离)创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。

光线距离

在使用所选物体>活动物体时，控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用罩体时可用。

罩体偏移

在使用 所选物体->活动物体 和罩体来控制光线向内投射的距离时。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割(如应用掉边线分割修改器)也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。

罩体

指定作为罩体的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

Note

当挤出低模不能获得良好的结果时，你可以创建一个低模的副本，并将其做成罩体。而且两者要有相同的才行(相同的面数和面顺序)。

边距

烘焙的结果将会超出每一个UV块的边界，以此来柔和纹理中的接缝。

清空