间接光照明
在Eevee中,间接照明分为两个部分:漫反射和高光反射。两者都有不同的需求和代表性。为了提高效率,间接照明数据根据需要预先计算到静态照明缓存中。
到目前为止,光缓存是静态的,需要在渲染之前计算。它不能被每帧更新(除非通过脚本)。这个限制正在解决中,并会在将来的版本中移除。
烘焙过程中使用的是当前活动视图层中的可见物体和集合。
需要多次烘焙来完成光线在场景中的反弹计算,并将上次烘焙结果合成。整体烘焙时间受反弹次数影响而倍增。
参考
- 自动烘焙
- 启用此选项将在更改探针时触发烘焙。调节探针物体时很有用。
- 漫射反弹
- 烘焙漫反射辐照度时光线的反弹次数。
- 立方体反射贴图的尺寸。
- 漫反射遮蔽尺寸
- 每个辐照度样本还存储一个阴影图, 用于尽可能地减少间接光泄漏。此参数定义此阴影贴图的大小。
- 辐射平滑
- 平滑辐照度插值,但引入光出血。辐照度能见度项可以使照明不在某些表面上平滑地插值。这减轻插值了权重。
- 钳制像素强度,以减少反射立方体内光泽反射的噪点(0为禁用)。
- 过滤品质
- 在立方体贴图过滤期间增大采样以删除瑕疵。目前只对立方体贴图有效
- 立方体贴图尺寸
- 在3D视图中直接显示缓存中存在的反射立方体贴图。
- 在3D视图中显示在缓存中存在的辐照度样本。
Note