阴影

阴影贴图是一种纹理，用于存储光照遮挡信息。 Eevee还会过滤阴影贴图，以平滑像素。

参考

模式
选择阴影贴图类型。它改变了阴影的存储和过滤方式。
- ESM
- 它们滤光较快，但在遮挡物附近会有漏光。这可以通过增加灯光的指数参数值减少漏光。另一个问题是深度不连续时存在的伪影。遗憾的是，这个没有解决办法，减少灯光柔和参数值是其唯一的解决方法。
- 过滤效果很好，可在整个阴影范围内提供平滑的阴影贴图。然而，当使用低位深度时，它可能会出现颗粒状伪影。当两个遮挡物重叠时，它容易发生漏光。在这种情况下，可以通过使用 出血偏移量 参数来遮蔽阴影以减少泄漏。 VSM使用的内存是ESM的两倍，并且速度较慢。
矩形尺寸
用于点光，面光和聚光的阴影立方体贴图的尺寸。较高的阴影贴图尺寸将提供更高的精度和更清晰的阴影。
级联大小
高位深
此选项可以帮助减少由于阴影贴图内的浮点数精度不足而导致的一些瑕疵。此选项会使阴影贴图的内存使用量加倍，并降低其更新速度。
柔和阴影
随机化阴影贴图原点以创建柔和阴影。它需要大量采样来消除硬阴影。
为了避免大量的灯光设置浪费时间，eevee首先会根据此灯光阈值自动计算该距离。该距离从光源原点处计算，并使用平方反比衰减。该设置可以在渲染设置面板 ‣ 阴影栏中找到。

自定义距离也是阴影最远裁剪距离，因此调整它会影响阴影的效果。日光光照距离没有限制，所以不受光照阈值影响。