渲染烘焙
Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途,最常见的是:
- 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。
- 烘焙环境光遮蔽或程序纹理,作为纹理绘制或进一步编辑的基础。
- 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。
烘焙需要模型具有UV贴图,以及具有烘焙的图像的图像纹理节点。活动(最后选择)图像纹理节点作为烘焙目标。
在强光/阴影解决方案中使用渲染烘焙,例如环境光遮蔽或来自平面光源的柔和阴影。如果为主要物体烘焙环境光遮蔽,则不必为完整渲染启用它,从而节省渲染时间。
在Cycles中使用渲染设置(采样、反弹、……)进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。
设置
- 合成结果
- 烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光,特殊效果。
- 环境光遮蔽
- 烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽,忽略场景中的其他灯光。
- 阴影
- 烘焙阴影及灯光。
- 法线
UV
- 仅烘焙材质的颜色和纹理,不含有着色信息。
- 自发光
- 烘焙自发光,或是材质的辉光颜色。
- 环境光
- 烘焙从物体中心所观察到的环境。
- 漫射,光泽,传递,表面细分
- 选择为活动物体
- 烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹,你可以通过调节 光线距离 或是 罩体挤出 (取决于你是否使用罩体)来调节光线的起点。对于更多的控制,你可以通过指定 罩体物体 来实现。
内存用量
每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存,为了避免内存不足而造成的崩溃,在烘焙之前,可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置,也会影响到内存的使用。比如分的块越大,CPU占用的越少,而内存则会占用的更多(不管是CPU,还是GPU)。
- 罩体
- 光线会从罩体投射到活动的物体,罩体是指从低模通过手动(指定要用的物体)或自动(调整光线距离)创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体,光线会依循网格的法线,这在边线的地方会产生一些小的瑕疵,为了避免这些瑕疵,可以围着边线添加额外的循环边,在烘焙平面时,这或许是一个不错的方法。
- 光线距离
- 在使用所选物体>活动物体时,控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用 罩体 时可用。
- 罩体偏移
- 在使用 所选物体->活动物体 和 罩体 来控制光线向内投射的距离时。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割(如应用掉边线分割修改器)也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。
- 罩体
- 指定作为 罩体 的物体,以此替代活动物体的罩体挤出。
Note
当挤出低模不能获得良好的结果时,你可以创建一个低模的副本,并将其做成 罩体 。而且两者要有相同的 才行(相同的面数和面顺序)。
- 边距
- 烘焙的结果将会超出每一个UV块的边界,以此来柔和纹理中的接缝。
- 选择该项时,在渲染烘焙前会先清空图像。